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PECVD

更新時間： 2026-01-16

產(chǎn)品型號：

產(chǎn)品報價：

所在地：合肥市新站區(qū)穎河路22號

產(chǎn)品特點： PECVD化學氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時，可將設備置于移動柜上以節(jié)約空間。

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產(chǎn)品概述

　　PECVD化學氣相沉積設備質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時，可將設備置于移動柜上以節(jié)約空間。

　　工作溫度：5~45?C

　　zui大壓力:3x106 Pa

　　精度: ±1.5% FS

　　線性:±(0.5-1.5)%F.S

　　重復精度: ±0.2%F.S.

　　流量范圍:

　　一路:1~199 SCCM

　　二路:1~499 SCCM

　　PECVD注意：其他流量范圍的可定制，需額外費用

　　化學氣相沉積設備CVD1200C-II-SL200D50-5Z雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫；PLC控制5路質(zhì)子流量器，能夠精確控制系統(tǒng)的供氣；真空泵可實現(xiàn)對管式爐快速抽真空。CVD(化學氣象沉積系統(tǒng))常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設備技術參數(shù)

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